Els recobriments UV a base d'aigua inclouen principalment resines UV a base d'aigua, fotoiniciadors, additius i recobriments colorants.Entre tots els components, la resina UV Waterborne té el major impacte en el rendiment del recobriment UV Waterborne.El rendiment de la resina UV a base d'aigua afecta la força, la resistència a la corrosió i la sensibilitat de curat de la pel·lícula curada a la superfície del recobriment [1].La resina a base d'aigua també es veu afectada pel fotoiniciador.Sota la influència del fotoiniciador, la resina a base d'aigua es pot curar sota la llum.Per tant, el fotoiniciador també és una part important dels recobriments UV a base d'aigua.La demanda de desenvolupament futur del fotoiniciador és polimeritzable i macromolecular.
Avantatges dels recobriments UV a base d'aigua: la viscositat dels recobriments es pot ajustar sense diluir els monòmers, eliminant la toxicitat i la irritació dels recobriments tradicionals.Els additius reològics es poden afegir correctament per reduir la viscositat del sistema de recobriment, que és convenient per al procés de recobriment.Quan el recobriment està fet de plàstic i altres materials, l'aigua es pot utilitzar com a diluent per millorar l'adhesió entre el recobriment i el recobriment.Millora la capacitat a prova de pols i de rascades del recobriment abans de curar, millora l'acabat del recobriment i la pel·lícula curada és ultrafina.L'equip de recobriment és fàcil de netejar.Els recobriments UVB a base d'aigua tenen una bona resistència a la flama.Com que no s'utilitza cap diluent actiu de baix peso molecular, es pot considerar la flexibilitat i la duresa.
Els recobriments de resina UV a base d'aigua es poden reticular i curar ràpidament sota l'acció del fotoiniciador i la llum ultraviolada.El major avantatge de la resina a base d'aigua és la viscositat controlable, la neteja, la protecció del medi ambient, l'estalvi d'energia i l'alta eficiència, i l'estructura química del prepolímer es pot dissenyar segons les necessitats reals.Tanmateix, encara hi ha algunes deficiències en aquest sistema, com ara l'estabilitat a llarg termini del sistema de dispersió d'aigua del recobriment, i l'absorció d'aigua de la pel·lícula curada.Alguns estudiosos van assenyalar que en el futur, la tecnologia de fotopolimerització a base d'aigua es desenvoluparà en els aspectes següents.
(1) Preparació de nous oligòmers: incloent baixa viscositat, alta activitat, alt contingut en sòlids, multifuncionals i hiperramificats.
(2) Desenvolupar nous diluents actius: inclosos nous diluents actius d'acrilat, que tenen una alta conversió, una alta reactivitat i una contracció de volum baix.
(3) Recerca sobre nous sistemes de curat: per tal de superar els defectes de curació incompleta causats de vegades per una penetració limitada dels raigs UV, s'adopten sistemes de curat dual, com ara fotopolimerització de radicals lliures / fotopolimerització catiònica, fotopolimerització de radicals lliures, polimerització tèrmica, Curació de la llum / curat anaeròbic de radicals lliures, curat de la llum de radicals lliures / curat humit, curat de la llum de radicals lliures / curat redox, per tal de donar un joc total a la sinergia entre ambdós, promoure el desenvolupament del camp d'aplicació dels materials de polimerització de llum a base d'aigua. .
Hora de publicació: 25-mai-2022